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序號(hào)

名稱

主要技術(shù)參數(shù)

數(shù)量

5

全自動(dòng)均質(zhì)器

1.基本配置

均質(zhì)器主機(jī)1套，20mm刀頭4個(gè)，50mL樣品管架1個(gè)， 50mL離心管300個(gè)， 150mL燒杯100個(gè)

2.技術(shù)要求

2.1.處理量應(yīng)大于30個(gè)樣品/批

2.2 功率需達(dá)到3/4 馬力，10,000 ~ 30,000 轉(zhuǎn)/分

2.3 可程序控制運(yùn)行單個(gè)或整架的試樣管，可設(shè)置多個(gè)操作程序并保存在機(jī)器上隨時(shí)調(diào)用

2.4 根據(jù)需要設(shè)置刀頭上下運(yùn)動(dòng)高度、速度和時(shí)間

2.5 需要防止交叉污染。需有初步清洗，有機(jī)溶劑清洗，超聲波最后清洗；自動(dòng)排廢水或有機(jī)溶劑

2.6 可使用標(biāo)準(zhǔn)或自定義的試管架

2.7 需要有可有效阻擋了噪音和浮塵裝置

1

序號(hào)

名稱

主要技術(shù)參數(shù)

數(shù)量

1

動(dòng)態(tài)光散射儀

1. 主要配置

主機(jī)1套，20mL圓形樣品池200個(gè)，7mL圓形樣品池200個(gè)，匹配液（1000mL）1瓶，匹配液濾膜2個(gè)，90nm粒度標(biāo)準(zhǔn)樣品1瓶，丙酮蒸餾裝置 1個(gè)，應(yīng)用軟件及操作說(shuō)明書(shū)1套，電腦與打印機(jī)1臺(tái)，光學(xué)平臺(tái)1個(gè)

2. 技術(shù)要求

2.1 動(dòng)態(tài)光散射測(cè)量參數(shù): 流體力學(xué)直徑（Dh）及其分布，擴(kuò)散系數(shù)（D），高分子的Z均分子量Mz和其他動(dòng)力學(xué)參數(shù)

2.2 靜態(tài)光散射測(cè)量參數(shù): 絕對(duì)重均分子量（Mw），均方根回旋半徑（Rg），第二維利系數(shù)（A2） 

Dh測(cè)量范圍：<1nm - >6μm

Mw測(cè)量范圍：>500 - 109Daltons

Rg測(cè)量范圍：10nm - 1μm

★2.6 濃度范圍：0.0001 mg/mL - 10mg/mL

★2.7 測(cè)量角度范圍：8-162°之間任意角度（手動(dòng)或計(jì)算機(jī)控制）；精度：0.01°

溫控范圍：-6—80°C，精度±0.1°，具有雙重?zé)峤粨Q溫度控制部件

激光器：200mW 532nm固體激光器

★2.10 開(kāi)放式儀器結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，可升級(jí)到雙激光器配置，可切換使用

★2.11 數(shù)字相關(guān)器：522物理通道，超過(guò)1010線性通道；25ns至40ms動(dòng)態(tài)可變采樣時(shí)間； 25ns至13l0s動(dòng)態(tài)可變延遲時(shí)間；支持2路互相關(guān)，支持8塊相關(guān)器聯(lián)用

★2.12 濾光片輪：532nm，488nm，514nm，640nm等多種

★2.13 孔徑片大小：100um/200um/400um/1mm/2mm/3mm

★2.14 光強(qiáng)調(diào)節(jié)方式：可變中密度濾光器與孔徑片大小組合調(diào)整方式

★2.15 十氫萘無(wú)毒匹配液，在線匹配液循環(huán)過(guò)濾系統(tǒng)

2.16 PD（雪崩型光電二極管）檢測(cè)器，帶有微處理器電子保護(hù)裝置

2.17 旋轉(zhuǎn)臺(tái)誤操作保護(hù)：設(shè)有限位器防止誤操作保護(hù)檢測(cè)器

2.18軟件：系統(tǒng)準(zhǔn)直軟件、動(dòng)態(tài)光散射與靜態(tài)光散射的全套分析軟件

2.19 電腦與打印機(jī)：國(guó)際品牌商用電腦，其配置不低于：E8400（3.0G，雙核，緩存6MB）/Q45主板/4G內(nèi)存，320GB硬盤(pán)，DVD-RW, 19（4：3）LCD；A4紙黑色HP激光打印機(jī)

3. 軟件三年內(nèi)免費(fèi)升級(jí)

1

序號(hào)

名稱

主要技術(shù)參數(shù)

數(shù)量

2

表面接觸角測(cè)定儀

1 基本配置

表面接觸角測(cè)定儀為進(jìn)口組裝產(chǎn)品，儀器主機(jī)1套，進(jìn)樣系統(tǒng)1套、光學(xué)系統(tǒng)1套，軟件系統(tǒng)1套(含軟件安裝光盤(pán)、配套安裝工具、儀器操作手冊(cè))

2 技術(shù)要求

2.1 整體指標(biāo)

2.1.1 接觸角測(cè)量范圍：0-180°

2.1.2 接觸角分辨率：0.01°

2.1.3 接觸角測(cè)值精度：±1°(θ/2 法)

2.1.4 儀器尺寸及重量：250Wx535Dx450Hmm30kg

2.1.5 電源：AC220—240V 50HZ

2.2 硬件指標(biāo)：

2.2.1 樣品臺(tái)及其控制：

2.2.1.1 樣品臺(tái)移動(dòng)：XY行程：自動(dòng) 50mm精度：0.1mm Z行程：手動(dòng) 25mm精度：0.01mm；

2.2.1.2樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)：樣品臺(tái)與鏡頭一起旋轉(zhuǎn)

2.2.1.3儀器水平控制：樣品臺(tái)水平控制、鏡頭水平控制和整機(jī)四腳水平3個(gè)地方控制

2.2.2 液系統(tǒng)及其控制：

2.2.2.1 進(jìn)液系統(tǒng)：手動(dòng)控制注射泵系統(tǒng)；

2.2.2.2 進(jìn)液器：高精度可更換針頭氣密玻璃針管 100uL

2.2.2.3 針頭：0.3mm細(xì)針頭、0.5mm標(biāo)準(zhǔn)針頭、0.9mm粗針頭、聚四氟乙烯針頭

2.2.2.4 進(jìn)樣器控制：XY行程：手動(dòng) 12.5mm0.01mm精度 Z：自動(dòng) 12.5mm0.01mm精度

2.3 成像系統(tǒng)及其控制

2.3.1 鏡頭控制：一維俯仰控制

2.3.2 鏡頭：工業(yè)連續(xù)放大鏡頭 1-5X光學(xué)放大 有效像素100 -500 pixel/mm

2.3.3 相機(jī)系統(tǒng)：工業(yè)級(jí)超低照度CCD系統(tǒng) 水平750線 0.0005Lux照度

2.3.4 背景光：可調(diào)亮度LED冷光源 50個(gè)左右高亮度LED燈 石英玻璃遮光片技術(shù)

2.4 軟件指標(biāo)：

2.4.1 接觸角分析方法:6種 θ/2 法、圓擬合法、橢圓擬合法、真實(shí)液滴法合、曲線尺法（切線法）、Spline插值曲線擬合法等

2.4.2 曲線擬合：1-8次曲線、圓曲線等20種曲線擬合

2.4.3 測(cè)試液滴狀態(tài)，共4種：懸滴法、停滴法（2/3態(tài)）、氣泡虜獲法、插板法等

2.4.4 視頻錄相功能：錄制AVI格式影視圖像，可用于PPT文件制作

2.4.5 多達(dá)12種表面自由能估算模型

2.4.6 自動(dòng)液滴量、粘附功、一液法表面自由能分析功能

1

序號(hào)

名稱

主要技術(shù)參數(shù)

數(shù)量

5

納米砂磨機(jī)

基本配置與技術(shù)要求

研磨筒體容積：約 0.3 L

裝料容積：約 0.2 L

研磨介質(zhì)裝填料：約 0.8 kG

研磨筒體結(jié)構(gòu)：懸臂式結(jié)構(gòu)

研磨筒體：耐磨鋼，可卻

內(nèi)管：材質(zhì)為不銹鋼表面硬鍍鉻350微米

研磨軸：鑄鋼+硬質(zhì)合金銷棒

研磨筒體底端：不銹鋼

分離系統(tǒng)：轉(zhuǎn)子縫隙式分離器, 分離環(huán)采用碳化鎢硬質(zhì)合金，縫隙寬度 0.15 mm

軸密封：三層唇密封

密封材料：聚四氟乙烯 / 特種橡膠

驅(qū)動(dòng)：變頻無(wú)極調(diào)速

攪拌軸速度：n= 600 -3000 rpm,線速度≥12 m/s

主驅(qū)動(dòng)電機(jī)：電機(jī)功率0,75 千瓦， 防護(hù)級(jí)IP54

啟動(dòng)形式：via FI 變頻驅(qū)動(dòng)

變頻器電壓范圍50 Hz 220V +/-10 % 1phase單相/N/PE

電氣設(shè)備：控制柜與設(shè)備單獨(dú)布置, 防護(hù)級(jí)IP 54 (防水, 防塵)操作盤(pán)上有

數(shù)字式轉(zhuǎn)速表和電流表.

允許使用的研磨介質(zhì)尺寸：0.1 -2.0 mmdia. 直徑

允許使用的研磨介質(zhì)尺寸

介質(zhì)填加量：≥200 ml

介質(zhì)填加量

加工量：最小180 ml，最大500 ml  

表面噴漆：耐溶劑漆

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